伴隨著現代化的普及化，反滲透設備在電子工業主要是電子元器件生產制造中的關鍵功效日益突顯，純凈水水質已變成危害電子元器件產品品質、生產制造良品率及產品成本的關鍵要素之一，水質規定也愈來愈高。在電子元器件生產制造中，工業純水關鍵作為清洗自來水及用于配置各種各樣水溶液、料漿，不一樣的電子元器件生產制造中純水的用途及對水質的規定也不一樣。

凈化水設備在清洗時的基礎全過程

1、用泵將清潔、無分散氯的ro反滲透水從清洗箱(或相對水源)打進壓力容器中并排出十多分鐘。

2、用清潔的商品水在清洗箱中配置清洗液。

3、將清洗液在壓力容器中循環系統1小時或事先設置的時刻。

4、反滲透設備清洗完成之后，排清清洗箱并開展沖刷，隨后向清洗箱中填滿清潔的水以便下一步沖刷。

5、用泵將清潔、無分散氯的水從清洗箱(或相對水源)打進壓力容器中并排出十多分鐘。

6、在沖刷凈化水設備后，在水排出閥開啟情況下運行ro反滲透管理體系，直至水清理、無泡沫塑料或無清洗劑(一般15~三十分鐘)。